专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]分光计和分析设备-CN201620552586.7有效
  • -
  • 2016-06-08 - 2017-01-11 - G01J3/12
  • 本实用新型涉及一种分光计,其包括多个色散元件,多个色散元件被排布为使得进入分光计的电磁辐射入射在色散元件上以在那里进行光谱分裂,其中,色散元件相对于它们的空间位置和/或它们的光谱分裂能力而彼此不同;以及其中色散元件被排布为使得通过电磁辐射的分裂的由各个色散元件生成的光谱在相同的方向上延伸以及横向于光谱分裂的该方向而彼此相邻;以及检测器,检测器在两个维度中是空间上可分辨的和位于分裂的电磁辐射的光路中以用于检测所述光谱的至少相应部分段本实用新型还涉及一种分析设备,用于确定固体的、液体的或气体的物质或物质混合物的吸收性质,分析设备包括分光计、电磁辐射源、和光学测量路径。
  • 分光计分析设备
  • [发明专利]光学设备-CN202010752519.0在审
  • 太田健史 - 佳能株式会社
  • 2020-07-30 - 2021-02-02 - G02B27/42
  • 本发明公开了光学设备。一种光学设备使光的波长色散,并且包括:色散元件,被配置成使入射光透射并且使入射光色散以使得光路对于每个波长是不同的,并且该色散元件被配置成生成第一色散;以及反射单元,包括顺次地反射第一色散的四个反射表面从四个反射表面顺次地反射的第一色散入射在色散元件上,并且透射通过色散元件
  • 光学设备
  • [发明专利]一种低杂散光多色仪-CN201210015681.X有效
  • 潘建根 - 杭州远方光电信息股份有限公司
  • 2012-01-19 - 2012-07-04 - G01J3/02
  • 本发明公开了一种低杂散光多色仪,包括光学腔、入射狭缝、色散系统和阵列探测器,色散系统的色散元件为光栅,阵列探测器的光敏面与光栅的主截面倾斜相交。本发明通过改变多色仪内光学器件的相对位置,使阵列探测器的光敏面上因发生非期望反射而产生的杂散光刚好被反射出期望光路,并在光学腔内壁,反射光斑投影的平面上安装消光的小光阑,从而大幅降低了杂散光
  • 一种散光多色
  • [发明专利]色散编码全范围光学相干断层成像术-CN201480079529.5有效
  • O·马索;J·罗尔纳 - 视乐有限公司
  • 2014-06-17 - 2019-04-02 - G01B9/02
  • 一种用于光学相干断层成像术的设备包括:光源(210);第一臂,该第一臂包括第一色散组件(220、234、230),该第一色散组件在来自该光源并穿越该第一臂的光中引起第一色散量,该第一臂构成干涉仪的样品臂和参考臂中的一个;第二臂,该第二臂包括第二色散组件(220、244、246、248;520),该第二色散组件在来自该光源并穿越该第二臂的光中引起第二色散量,该第二臂构成该样品臂和该参考臂中的另一个,该第二色散量大于该第一色散量;处理单元(262),该处理单元被配置为处理干涉信号以进行色散编码全范围光学相干断层成像术,该干涉信号代表来自该第一臂的光和来自该第二臂的光的叠加,其中对于该第二分散光组件中的一个或多个光学元件的任一子组件,由该子组件在穿越该第二臂的光中引起的色散量不同于该第一色散量。
  • 色散编码范围光学相干断层成像
  • [实用新型]一种低杂散光多色仪-CN201220023389.8有效
  • 潘建根 - 杭州远方光电信息股份有限公司
  • 2012-01-19 - 2012-09-12 - G01J3/02
  • 本实用新型公开了一种低杂散光多色仪,包括光学腔、入射狭缝、色散系统和阵列探测器,色散系统的色散元件为光栅,阵列探测器的光敏面与光栅的主截面倾斜相交。本实用新型通过改变多色仪内光学器件的相对位置,使阵列探测器的光敏面上因发生非期望反射而产生的杂散光刚好被反射出期望光路,并在光学腔内壁,反射光斑投影的平面上安装消光的小光阑,从而大幅降低了杂散光
  • 一种散光多色
  • [发明专利]具有内部预色散的中阶梯光栅光谱仪装置-CN201080015286.0有效
  • H.贝克-罗斯;S.弗洛雷克;M.奥克鲁斯 - 莱布尼茨解析科学学院
  • 2010-01-25 - 2012-03-14 - G01J3/18
  • 具有内部级次分离的中阶梯光栅光谱仪装置(10)包含中阶梯光栅(34)和色散元件(38)、成像光学系统(18,22,28,46)、面检测器(16)以及预色散装置(20),所述色散元件(38)用于进行级次分离,使得可产生具有多个被分离的级次(56)的二维谱,所述预色散装置(20)用于朝色散元件(38)的横向色散的方向使辐射预色散。该装置的特征在于:预色散装置(20)包括预色散元件,该预色散元件沿着光学路径被布置在光谱仪装置内部的入射缝隙(12)之后;成像光学系统被构造为使得预色散辐射可以被成像到附加的在预色散方向上无限制的图像平面(24)中,该图像平面(24)沿着光学路径被布置在预色散元件(20)和中阶梯光栅(34)之间;以及光学装置(20,68)被设置在预色散谱的位置上,用于影响在检测器(16)上的空间和/或光谱辐射密度分布
  • 具有内部色散阶梯光栅光谱仪装置
  • [发明专利]光谱特征控制装置-CN201780063627.3有效
  • E·A·梅森 - 西默有限公司
  • 2017-10-04 - 2022-09-27 - G02B27/09
  • 一种光谱特征选择装置包括:色散元件,被布置为与脉冲光束交互;三个或更多个折射光学元件,被布置在色散元件与脉冲光学源之间的脉冲光束的路径中;以及一个或多个致动系统,每个致动系统与折射光学元件相关联并且被配置为旋转相关联的折射光学元件致动系统中的至少一个致动系统是包括快速致动器的快速致动系统,快速致动器被配置为使其相关联的折射光学元件绕旋转轴线旋转。快速致动器包括旋转步进电机,旋转步进电机具有绕轴心线旋转的旋转轴,轴心线与相关联的折射光学元件的旋转轴线平行。
  • 光谱特征控制装置
  • [发明专利]光学分析系统-CN200380107083.4有效
  • R·F·M·亨德里克斯 - 皇家飞利浦电子股份有限公司
  • 2003-11-21 - 2006-02-01 - G01J3/28
  • 光学分析系统(1)设置成确定光学信号的主成分的振幅。光学分析系统(1)包括用于探测由第一光谱加权函数加权的光学信号的第一探测器(5),以及用于探测由第二光谱加权函数加权的光学信号的第二探测器(6)。为了改进信噪比,光学分析系统(1)进一步包括色散元件(2),用于光谱色散信号;并包括分配元件(4),用于接收光谱色散信号,并用于将由第一光谱加权函数加权的第一部分光学信号分配到第一探测器(5)且将由第二光谱加权函数加权的第二部分光学信号分配到第二探测器光谱分析系统(30)和血液分析系统(40)均包括根据本发明的光学分析系统(1)。
  • 光学分析系统
  • [发明专利]材料加工中的激光聚焦控制方法-CN201510893588.2在审
  • 彭翔;彭娟 - 彭翔;彭娟
  • 2015-12-08 - 2017-06-16 - B23K26/38
  • 一种材料加工中的激光聚焦控制方法,包括将一衍射光学元件或一径向色散元件与聚焦光学元件组合在一起,所述组合能够增加材料加工的有效焦深,而不牺牲所要求的焦点光斑尺寸及光束束腰;使激光光束从所述衍射光学元件入射,经所述聚焦光学元件聚焦后,照射在加工件上,或者使激光光束从所述聚焦光学元件入射,经所述径向色散元件增加径向焦距后照射在加工件上;使所述激光光束在所述加工件上形成具有有效焦深的光斑或聚焦面。
  • 材料加工中的激光聚焦控制方法

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